特許

J-GLOBAL ID：200903004152124849

電子放出源の製造方法および電子放出源ならびにディスプレイ装置

発明者： 根岸 英輔 ,  中田 諭
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-201600
公開番号（公開出願番号）：特開2001-035359
出願日： 1999年07月15日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：

【要約】【課題】 低電圧駆動、電流量の均一化、電子ビームの広がり回避、長寿命化を実現し、さらに製造時の電極間の短絡を防止する。【解決手段】 下部基板1上には帯状の複数本のカソード電極ライン2が形成されている。カソード電極ライン2上には、絶縁層3が形成され、その上にカソード電極ライン2と交差する帯状の複数本のゲート電極ライン4が形成されている。カソード電極ライン2とゲート電極ライン4との各交差箇所には多数の微細孔5が形成され、この領域がディスプレイの1つの画素に対応している。各微細孔5は、上記絶縁層3とゲート電極ライン4とを貫通し、カソード電極ライン2の中程に至る深さに形成されている。そしてカソード電極ライン2に電圧を印加しつつ、炭素を主体とするターゲットにレーザ光を照射してレーザアブレーション法により、凹部10内の底部にカーボン膜7が形成されている。

請求項（抜粋）：

基板上に第1の電極と、絶縁層と、第2の電極とをこの順番で形成し、前記第2の電極上に開口するとともに前記絶縁層を貫通して前記第1の電極に至る微細孔を形成する電子放出源の製造方法であって、前記微細孔内の前記第1の電極表面に、底部が前記第1の電極の表面とほぼ平行な凹部を形成し、前記第1の電極に電圧を印加しつつ、炭素を主体とするターゲットにレーザ光を照射してレーザアブレーション法により、前記微細孔内の前記第1の電極の前記凹部内の底部に炭素の薄膜を形成することを特徴とする電子放出源の製造方法。

IPC (4件)：

H01J 9/02 ,  H01J 1/304 ,  H01J 29/04 ,  H01J 31/12

FI (4件)：

H01J 9/02 B ,  H01J 29/04 ,  H01J 31/12 C ,  H01J 1/30 F

Fターム (6件)：

5C031DD09 ,  5C031DD19 ,  5C036EF01 ,  5C036EF06 ,  5C036EG02 ,  5C036EG12