特許

J-GLOBAL ID：200903004162398491

高信頼性窒化ケイ素セラミックスとその製造方法

発明者： 鳥山 素弘 ,  平尾 喜代司 ,  マヌエル イー ブリト ,  神崎 修三 ,  茂垣 康弘
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  ファインセラミックス技術研究組合
代理人 (2件)： 須藤 政彦 (外1名) ,  須藤 政彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-350311
公開番号（公開出願番号）：特開平9-169571
出願日： 1995年12月22日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：

【要約】【課題】 衝撃力や応力、ひずみに対して許容性が大きく信頼性の高い窒化ケイ素セラミックス及びその製造方法を提供する。【解決手段】 1〜1000μmの厚みで形成された気孔率(5〜70vol%)の多孔質窒化ケイ素の層と1〜1000μmの厚みで形成された気孔率が5vol%以下の緻密質窒化ケイ素の層を任意の階層に重ね合わせた積層構造を有することを特徴とする、低弾性率で高強度を維持することにより破断ひずみを大幅に増大させた窒化ケイ素焼結体。また、シート成形、押出成形等の成形方法で焼結後に1〜1000μmの厚みになるように緻密層と多孔質層を形成し、それらを任意の階層で重ね合わせ、窒素雰囲気中で温度1600〜2100°Cの温度範囲で一体で焼結することを特徴とする上記の窒化ケイ素焼結体の製造方法。

請求項（抜粋）：

1〜1000μmの厚みで形成された気孔率(5〜70vol%)の多孔質窒化ケイ素の層と1〜1000μmの厚みで形成された気孔率が5vol%以下の緻密質窒化ケイ素の層を任意の階層に重ね合わせた積層構造を有することを特徴とする、低弾性率で高強度を維持することにより破断ひずみを大幅に増大させた窒化ケイ素焼結体。

IPC (4件)：

C04B 35/584 ,  B32B 5/10 ,  B32B 5/14 ,  B32B 18/00

FI (4件)：

C04B 35/58 102 Z ,  B32B 5/10 ,  B32B 5/14 ,  B32B 18/00 A