特許
J-GLOBAL ID：200903004165911165
ポリマ導波路及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-200562
公開番号（公開出願番号）：特開平10-048443
出願日： 1996年07月30日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：
【要約】【課題】 低損失、クラッド層の上面が平坦、高寸法精度で、基板の厚さが極めて薄く、しかもプロセスが簡単なポリマ導波路及びその製造方法を提供する。【解決手段】 ポリマコア層34aのコア層33とすべき部分を除いて紫外線37を照射することにより、コア層33の両側面に下部クラッド層34が形成されるので、コア層33及び下部クラッド層34を覆うように形成される上部クラッド層35の上面が平坦となり、寸法精度が高く、厚さが極めて薄いポリマ導波路30を得ることができる。
請求項（抜粋）：
基板と、該基板上に形成された低屈折率n<SB>b </SB>のバッファ層と、該バッファ層の上に形成され紫外線が照射されると屈折率が低下するポリマからなり、紫外線が照射されない略矩形断面形状のコア層(屈折率n<SB>w </SB>、n<SB>w </SB>>n<SB>b </SB>)と、該コア層の両側で紫外線が照射された下部クラッド層(屈折率n<SB>p </SB>、n<SB>p </SB><n<SB>w </SB>)と、上記ポリマの該コア層の両側で紫外線が照射された下部クラッド層と、該下部クラッド層及び上記コア層の上面を覆う上部クラッド層(n<SB>c </SB>、n<SB>c </SB><n<SB>w </SB>)とを備えたことを特徴とするポリマ導波路。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 A
, G02B 6/12 M
