特許

J-GLOBAL ID：200903004176775271

混合ガスの濃度調整方法および濃度調整装置

発明者： 山下 直彦
出願人/特許権者： 日本エア・リキード株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 崇生 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-241269
公開番号（公開出願番号）：特開2001-062240
出願日： 1999年08月27日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
要約：

【要約】【課題】 易透過性ガスの回収率の維持と動力費の抑制の両立が可能な混合ガスの濃度調整方法および濃度調整装置を提供する。【解決手段】 透過性の異なる2種以上のガスを含む混合ガスを昇圧する昇圧機C11,C12を備えた昇圧経路と、その昇圧経路から混合ガスの一部を導出する経路L1と、その経路L1より供給されたガスをガス分離膜M1,M2にて透過ガスと残留ガスとに分離するガス分離部と、その透過ガスを前記昇圧経路に導入する経路とを備える混合ガスの濃度調整装置において、ガス分離部S1,S2を複数段で構成して、前段の残留ガスを次段のガス分離部S2に供給する経路L3にて各段を接続し、各段の透過ガスを前記昇圧経路に個別に又は合流後に導入する経路L2,L4を設けると共に、後段側のガス分離部S2ほど、供給側と透過側との圧力比が大きくなるように、前記昇圧経路の圧力差を利用する等する。

請求項（抜粋）：

ガス分離膜に対する透過性の異なる2種以上のガスを含む混合ガスを、昇圧機を備えた経路に供給して昇圧しつつ、その昇圧経路から混合ガスの一部を導出してガス分離膜にて透過ガスと残留ガスとに分離した後、その透過ガスを前記昇圧経路に導入することで、混合ガスの濃度を調整する濃度調整方法において、前記昇圧経路から導出したガスを第1ガス分離膜にて第1透過ガスと第1残留ガスとに分離した後、その第1残留ガスを第2ガス分離膜にて第2透過ガスと第2残留ガスとに分離しつつ、前記第1透過ガスと前記第2透過ガスとを前記昇圧経路に個別に又は合流後に導入すると共に、前記第2ガス分離膜における供給側と透過側との圧力比(供給側/透過側)を、前記第1ガス分離膜における供給側と透過側との圧力比(供給側/透過側)よりも大きくすることを特微とする混合ガスの濃度調整方法。

IPC (2件)：

B01D 53/22 ,  B01D 63/00

FI (2件)：

B01D 53/22 ,  B01D 63/00

Fターム (25件)：

4D006GA41 ,  4D006HA01 ,  4D006HA61 ,  4D006JA52Z ,  4D006JA71 ,  4D006KA12 ,  4D006KA52 ,  4D006KA54 ,  4D006KE06Q ,  4D006MA01 ,  4D006MA03 ,  4D006MC47 ,  4D006MC48 ,  4D006MC49 ,  4D006MC54 ,  4D006MC58 ,  4D006MC62 ,  4D006PA02 ,  4D006PB63 ,  4D006PB65 ,  4D006PB66 ,  4D006PB67 ,  4D006PB68 ,  4D006PB70 ,  4D006PC80

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭54-130484
  
• 特開昭54-130484
  
• 特開昭60-137419