特許

J-GLOBAL ID：200903004180227173

高シリカ珪酸塩系分子篩の合成方法

発明者： 山本 東 ,  高橋 章 ,  平松 拓也 ,  鈴木 憲次
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (1件)： 渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-270960
公開番号（公開出願番号）：特開平10-259018
出願日： 1997年10月03日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：

【要約】【課題】 脱Al操作をすることなしに、Al含有量の少ないゼオライトを直接合成することにより、高い耐熱性及び耐水熱性を発現させ、且つ合成プロセスの簡易化及び収率の向上に寄与することができる高シリカ珪酸塩系分子篩の合成方法を提供する。【解決手段】 Al,H,OおよびSi以外の元素として少なくともFeを含み、Si/Feモル比が50以上、かつSi/Feモル比が80以下(細孔構造がβ型の場合には、Si/Feモル比が45以下)である原料を用いて水熱合成後、酸化雰囲気下300°C以上で熱処理したものである。

請求項（抜粋）：

Al,H,OおよびSi以外の元素として少なくともFeを含み、Si/Alモル比が50以上、かつSi/Feモル比が80以下である原料を用いて水熱合成後、酸化雰囲気下300°C以上で熱処理することを特徴とする高シリカ珪酸塩系分子篩の合成方法。

IPC (3件)：

C01B 39/06 ,  B01D 53/02 ,  B01J 20/18

FI (3件)：

C01B 39/06 ,  B01D 53/02 Z ,  B01J 20/18 D

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭62-275017
  
• 特開昭59-116120
  
• 特開昭61-010022
  

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-275017
  
• 特開昭59-116120