特許

J-GLOBAL ID：200903004182831159

気相成長用原料液体の蒸発器

発明者： 岡本 徹
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 林 恒徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-159280
公開番号（公開出願番号）：特開平6-005512
出願日： 1992年06月18日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 MOCVD装置に用いる有機金属原料液体の蒸発器において、簡単な構造で操作が容易な原料液体の蒸発器を提供する。【構成】 半導体気相成長用原料液体1の蒸発器11内にキャリアガスを導入して、該ガスに原料液体成分を担持させ気相成長装置の反応容器内に導入する。蒸発器11は原料液体供給室12とバブリング室13とに分離され、下部に原料液体1が通過する原料液体供給口14と、中央部にキャリアガスが通過し液面4の高さを調整する液面調整口15を備えた仕切り板16を設け、また原料液体供給室12には室内圧力検知用圧力計17と室内排気用の排気管18を備える。バブリング室13にはキャリアガス導入管19と、原料液体をバブリングし液体成分を担持したガスを容器内へ流すガス排出管21を備える。

請求項（抜粋）：

半導体気相成長用の原料液体内にキャリアガスを導入して該キャリアガスに原料液体成分を担持させて気相成長装置の反応容器内に導入する気相成長用原料液体の蒸発器(11)であって、該蒸発器(11)内に、原料液体(1) を供給する原料液体供給室(12)と、原料液体をバブリングするバブリング室(13)とに分離し、かつ下部に原料液体が通過する原料液体供給口(14)と、中央部にキャリアガスが通過し、液面(4) の高さを調整する液面調整口(15)を備えた仕切り板(16)を設けるとともに、該原料液体供給室(12)に該原料液体供給室(12)内の圧力を検知する圧力計(17)と、該原料液体供給室(12)内を排気する排気管(18)を備え、前記バブリング室(13)にキャリアガスを導入するキャリアガス導入管(19)と、該原料液体(1) をバブリングし、該原料液体成分を担持したキャリアガスを、前記気相成長装置の反応容器内に流出するガス排出管(21)を備えたことを特徴とする気相成長用原料液体の蒸発器。