特許
J-GLOBAL ID：200903004184635306
投影露光装置及び方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-281483
公開番号（公開出願番号）：特開平8-234138
出願日： 1986年10月30日
公開日（公表日）： 1996年09月13日
要約：
【要約】【課題】マスクパターンを感光基板上に投影露光する際に、投影光学系の瞳面に生成される光源像の分布が変更されると、結像特性を良好に維持することができないという不都合があった。【解決手段】投影光学系24の瞳面に生成される光源像の分布が変更されるときに、変更後の光源像分布に適応して結像特性調整手段(32、34、36、38)を動作させるようにする。
請求項（抜粋）：
露光用の照明光でマスクを照明する照明系と、前記マスクのパターンの像を感光基板上に所定の結像特性で投影する投影光学系と、前記照明系からの照明光によって前記投影光学系の瞳面に生成される光源像の分布を変更する分布変更手段と、前記投影光学系を構成する少なくとも一部の光学要素の特性を調整して前記投影光学系の結像特性を微調整する結像特性調整手段とを備えた投影露光装置において、前記分布変更手段による前記光源像分布の変更に応じて生じる前記投影光学系の結像特性の所定状態からの変化を補正するのに必要される前記光学要素の特性の補正情報を予め記憶する記憶手段と;前記分布変更手段によって前記光源像分布が変更されるときは、前記変更後の光源像の分布状態に対応した補正情報を前記記憶手段から読み出し、該補正情報に基づいて前記結像特性調整手段の調整動作を制御する制御手段と;を備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (4件)：
G02B 27/18
, G02B 19/00
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
G02B 27/18 Z
, G02B 19/00
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 A
, H01L 21/30 527
