特許

J-GLOBAL ID：200903004200422296

走査露光方法および走査型露光装置

発明者： 町野 勝弥
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-291180
公開番号（公開出願番号）：特開2002-099097
出願日： 2000年09月25日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
要約：

【要約】【課題】 基板上の複数の露光領域に走査露光する際にもステージ精度を容易に補正する。【解決手段】 マスクMと基板Pとを露光光に対して所定の方向-Xに同期移動させて、マスクMに形成されたパターンを基板P上の複数の露光領域A1〜A6に走査露光する。露光領域の一つA1〜A4に走査露光を行った後、次の露光領域A5、A6に走査露光を行うまでの間に、マスクMと基板Pとの少なくとも一方を他方に対して相対移動させるステップと、相対移動後に、相対移動前の同期移動の方向と同じ方向に、マスクMと基板Pとを同期移動させるステップと、を有する。

請求項（抜粋）：

マスクと基板とを露光光に対して所定の方向に同期移動させて、前記マスクに形成されたパターンを前記基板上の複数の露光領域に走査露光する走査露光方法であって、前記露光領域の一つに走査露光を行った後、次の露光領域に走査露光を行うまでの間に、前記マスクと前記基板との少なくとも一方を他方に対して相対移動させるステップと、前記相対移動後に、該相対移動前の前記同期移動の方向と同じ方向に、前記マスクと前記基板とを同期移動させるステップと、を有することを特徴とする走査露光方法。

IPC (3件)：

G03F 7/22 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/22 Z ,  G03F 9/00 Z ,  H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 518

Fターム (10件)：

2H097AA12 ,  2H097AB09 ,  2H097BA10 ,  2H097BB01 ,  2H097GB00 ,  2H097KA03 ,  2H097KA29 ,  2H097LA12 ,  5F046BA05 ,  5F046CC15