特許
J-GLOBAL ID:200903004218495967
ヘアトリートメント組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
川口 義雄
, 小野 誠
, 大崎 勝真
, 坪倉 道明
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-559755
公開番号(公開出願番号):特表2006-510681
出願日: 2003年11月26日
公開日(公表日): 2006年03月30日
要約:
本発明は、二糖と二酸とを含むシャンプーまたはコンディショナーのようなヘアトリートメント組成物を提供する。
請求項(抜粋):
(i)0.05から49重量%の二糖と(ii)二酸とを含むヘアトリートメント組成物。
IPC (2件):
FI (1件):
Fターム (13件):
4C083AC291
, 4C083AC292
, 4C083AC302
, 4C083AC582
, 4C083AC642
, 4C083AC692
, 4C083AC741
, 4C083AC742
, 4C083AC782
, 4C083AD152
, 4C083AD211
, 4C083AD212
, 4C083CC33
引用特許:
審査官引用 (7件)
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毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-100389
出願人:一丸ファルコス株式会社, 味の素株式会社
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エアゾール化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-357818
出願人:花王株式会社
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毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-017492
出願人:花王株式会社
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