特許

J-GLOBAL ID：200903004231448099

露光装置及び露光方法

発明者： 金子 謙一郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-256396
公開番号（公開出願番号）：特開2000-091196
出願日： 1998年09月10日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】【課題】 パターン形成条件に対応した露光条件を予め露光装置内に記憶しておき、該露光条件を露光時に簡単且つ迅速に設定できるようにする。【解決手段】 予め種々のパターン形成条件に対応した最適露光条件を実験により求め、露光装置内に備えた記憶装置16に記憶しておく。実際の露光時にレチクルのパターン形成条件を露光装置に入力すると、主制御系15は最適な露光条件を記憶されたデータに基づいて求め、露光装置の設定条件として設定する。従って、パターン形成条件に対応した最適露光条件を簡単かつ迅速に設定できる。

請求項（抜粋）：

投影光学系の物体面側に所定のパターンが形成されたマスクを配置するとともに、前記投影光学系の像面側には前記パターンの像が投影転写される基板を配置し、その基板と前記パターンの像の結像面とを相対移動させつつ、前記パターンの像を前記基板上に露光するようにした露光装置において、前記マスクのパターンのパターン形成条件に基づいて、前記パターンの像の露光条件を求める制御手段を備えた露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 516 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 Z

Fターム (6件)：

5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CB17 ,  5F046DA02 ,  5F046DA14