イオン注入装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：富田和子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-154080
公開番号（公開出願番号）：特開平10-003873
出願日： 1996年06月14日
公開日（公表日）： 1998年01月06日
要約：

【要約】【課題】ビームライン中での電流減少が少なくSIMOXなどの高ドーズ量の注入に最適な、大電流で小型のイオン注入装置を提供する。【解決手段】質量分離スリット4を、イオン光学的収束点よりも質量分離器3側に設置する。また、引き出し電極をイオンビーム引き出し方向に凹になるように湾曲させ、その湾曲半径を、イオン源1から質量分離器3の出口以降の任意位置までのイオンビーム中心軌道距離とする。

請求項（抜粋）：

イオン源から引き出したイオンビームから所望のイオン種のみを取り出して別途用意されたターゲットに照射するイオン注入装置において、上記イオン源からイオンビームを引き出す引き出し手段と、上記イオン源から出射されるイオンビームに含まれているイオン種のそれぞれを、当該イオン種毎に異なる軌道で偏向させる質量分離器と、上記質量分離器から出射されるイオンビームから、所望のイオン種のみ選択するスリットとを備え、上記スリットは、上記質量分離器から出射されたイオンビームのイオン光学的収束点よりも上記質量分離器に近い位置に設置されていること、を特徴とするイオン注入装置。

IPC (2件)：

H01J 37/05 , H01J 37/317

FI (2件)：

H01J 37/05 , H01J 37/317 Z

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平3-219544
特開平2-144842
特開平1-248451

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審査官引用 (5件)

特開平3-219544
特開平2-144842
特開平1-248451

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