特許

J-GLOBAL ID：200903004233682803

溶媒可溶性ポリイミドの製造方法

発明者： 大場 正幸 ,  真竹 茂
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-120764
公開番号（公開出願番号）：特開平5-310933
出願日： 1992年05月13日
公開日（公表日）： 1993年11月22日
要約：

【要約】【目的】ポリイミド膜パターンを形成するための感光性樹脂組成物に好適な溶媒可溶性ポリイミドの製造方法であって、ポリマー溶液を得た後に特に精製を行う必要がなく、得られた溶液をそのまま組成物の調製に供することを可能にする方法を提供すること。【構成】下記反復単位を有するポリアミド酸およびジシクロヘキシルカルボジイミドを含有する溶液中で、該ポリアミド酸の脱水反応によりポリイミドを得ることを特徴とする。【化1】(式中、R1 は4価の有機基を、R2 は2価の有機基を夫々表す。)

請求項（抜粋）：

下記反復単位(1)を有するポリアミド酸およびジシクロヘキシルカルボジイミドを含有する溶液中で、該ポリアミド酸の脱水反応によりポリイミドを得ることを特徴とする溶媒可溶性ポリイミドの製造方法。【化1】(式中、R1 は4価の有機基を、R2 は芳香環に結合した少なくとも1個の水酸基を有する2価の有機基を夫々表す。)

IPC (4件)：

C08G 73/10 NTF ,  H01L 21/312 ,  H01L 23/29 ,  H01L 23/31