特許

J-GLOBAL ID：200903004235820197

薄膜形成装置

発明者： 佐々木 克己 ,  北折 典之 ,  吉田 修 ,  石川 准子
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 宇高 克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-189178
公開番号（公開出願番号）：特開平9-031650
出願日： 1995年07月25日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：

【要約】【課題】 成膜時に表面に適度な凹凸が形成される薄膜形成技術を提供することである。【解決手段】 支持体走行手段と、この支持体走行手段によって走行させられる支持体に対向して設けられ、支持体上に薄膜材料を飛散・堆積させる手段と、前記支持体走行手段によって走行させられる支持体と薄膜材料を飛散・堆積させる手段との間に設けられたライン状の遮蔽部材とを具備してなり、前記ライン状の遮蔽部材によって支持体上に堆積した薄膜に凹凸が形成されるよう構成した薄膜形成装置。

請求項（抜粋）：

支持体走行手段と、この支持体走行手段によって走行させられる支持体に対向して設けられ、支持体上に薄膜材料を飛散・堆積させる手段と、前記支持体走行手段によって走行させられる支持体と薄膜材料を飛散・堆積させる手段との間に設けられたライン状の遮蔽部材とを具備してなり、前記ライン状の遮蔽部材によって支持体上に堆積した薄膜に凹凸が形成されるよう構成したことを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (4件)：

C23C 14/56 ,  C23C 16/54 ,  G11B 5/84 ,  G11B 5/85

FI (4件)：

C23C 14/56 A ,  C23C 16/54 ,  G11B 5/84 B ,  G11B 5/85 A