特許

J-GLOBAL ID：200903004236578802

レジストパターンの形成方法

発明者： 鈴 木 隆 ,  北 浦 義 昭
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-252189
公開番号（公開出願番号）：特開平11-097328
出願日： 1997年09月17日
公開日（公表日）： 1999年04月09日
要約：

【要約】【課題】 解像性に優れた高精度なリフトオフ用の微細なレジストパターンを形成することを可能にする。【解決手段】 被処理基板1上に感度の異なる第1および第2のレジスト層3,5を順次形成する工程と、露光および現像処理する工程と、を備えていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被処理基板上に感度の異なる第1および第2のレジスト層を順次形成する工程と、露光および現像処理する工程と、を備えていることを特徴とするレジストパターンの形成方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/26 513 ,  G03F 7/38 501

FI (4件)：

H01L 21/30 573 ,  G03F 7/26 513 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/30 541 P

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭62-144161