特許

J-GLOBAL ID：200903004242976526

異物等の欠陥検出方法およびそれを実行する装置

発明者： 宍戸 弘明 ,  松本 俊一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-031676
公開番号（公開出願番号）：特開平8-304296
出願日： 1996年02月20日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：

【要約】【課題】 サブミクロンオーダーの微細な異物等の欠陥を、高いS/N比で安定に検出すること。【解決手段】 光学的反射手段8として、位相供役鏡81を有する位相供役システムで構成すると、レチクル6上で反射した光が位相供役鏡81によって再び反射され、レチクル6上の異物902を反対側から照明するので、照明光の光束が異物902を二回照明することとなり、そのため、異物902からの散乱光量がほぼ二倍の量となる。従って、位相供役鏡81によって高S/N比で検査できるので、微粒子であっても、確実に異物等の欠陥を検出することができる。

請求項（抜粋）：

遮光膜と光透過膜との何れか一方またはその両方で形成された回路パターンを有する光透過性または半光透過性の材料からなる被検体を、所定位置にセットし、該被検体の一方の面上の検査視野を照明して基板上の異物等の欠陥を検出する方法であって、前記セットされた被検体の検査視野に対し、斜め上方から光束を直接照射すると同時に、斜め下方から光束を照射することを特徴とする異物等の欠陥検出方法。