特許

J-GLOBAL ID：200903004258765657

高分子シート、高分子シートの製造方法及び滑走材

発明者： 森口 和総 ,  桜井 文雄 ,  関口 育男 ,  梅澤 美昭
出願人/特許権者： ソマール株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-032927
公開番号（公開出願番号）：特開平7-251462
出願日： 1995年01月31日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：

【要約】【目的】 性状の異なった縦方向に延びた少なくとも2種の帯域を有する高分子シート及びその製造方法を提供するとともに、ストライプ模様を有する高分子シートからなる滑走材を提供すること。【構成】 縦方向に延びた複数の帯域から構成される高分子シートであって、それら帯域は隣接する帯域とは相互に異なった性状を有することを特徴とする高分子シート。相互に異なった性状を有する少なくとも2種の高分子材料層からなる積層体ブロックの外周面部を切削し、シート状切削物を得ることを特徴とする高分子シートの製造方法。縦方向に延びた複数の帯域から構成される高分子シートからなり、隣接する2つの帯域が相互に異なった色相及び/又は耐摩耗性を有することを特徴とする滑走材。縦方向に延びた複数の帯域から構成される高分子シートからなり、隣接する2つの帯域が相互に異なった耐摩耗性を有し、かつ耐摩耗性の低い帯域は溝状凹部に形成されていることを特徴とする滑走材。

請求項（抜粋）：

縦方向に延びた複数の帯域から構成される高分子シートであって、それら帯域は隣接する帯域とは相互に異なった性状を有することを特徴とする高分子シート。

IPC (7件)：

B29D 7/01 ,  A63C 5/056 ,  B29C 69/00 ,  B29D 31/00 ,  B32B 31/20 ,  B32B 27/32 ,  B29K 23:00