特許

J-GLOBAL ID：200903004258778317

電解型オゾン水製造装置及びその再生方法

発明者： 谷岡 隆 ,  西村 喜之 ,  品川 三佐人 ,  寺田 充夫
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-291951
公開番号（公開出願番号）：特開平10-130876
出願日： 1996年11月01日
公開日（公表日）： 1998年05月19日
要約：

【要約】【課題】 電解型オゾン水製造装置においてオゾン濃度が低下した場合の再生方法と、その再生処理に好適な電解型オゾン水製造装置を提供する。【解決手段】 高分子電解質膜と陽極及び陰極を有する電解槽に水を連続的に導入し陽極と陰極の間に直流電圧を印加することにより陽極側からオゾン水を取り出す電解型オゾン水製造装置を再生するにあたり、酸性溶液を上記電解槽に供給することにより、上記高分子電解質膜と陽極及び陰極の洗浄を行う。或いは、脱イオン水または蒸留水を陽極側に供給して、電解を行うことにより上記電解質膜の再生処理を行ってもよい。

請求項（抜粋）：

高分子電解質膜と陽極及び陰極を有する電解槽に水を連続的に導入し陽極と陰極の間に直流電圧を印加することにより陽極側からオゾン水を取り出す電解型オゾン水製造装置の再生方法であって、酸性溶液を上記電解槽に供給することにより、上記高分子電解質膜と陽極及び陰極の洗浄を行うことを特徴とする電解型オゾン水製造装置の再生方法。

IPC (4件)：

C25B 9/00 301 ,  C02F 1/46 ,  C02F 1/78 ,  C25B 1/30

FI (4件)：

C25B 9/00 301 ,  C02F 1/46 A ,  C02F 1/78 ,  C25B 1/30

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平3-020488