特許

J-GLOBAL ID：200903004264175799

加熱装置

発明者： 佐竹 司 ,  中川 文夫
出願人/特許権者： 株式会社堀場製作所
代理人 (1件)： 藤本 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-207891
公開番号（公開出願番号）：特開平9-033513
出願日： 1995年07月22日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：

【要約】【課題】 サンプルガス中の特定成分と反応する触媒等の材料の前処理時間および測定に要する時間を短縮できる加熱装置を提供すること。【解決手段】 サンプルガスS1 ,S2 中の特定成分と反応する触媒3を加熱して、この触媒3の表面に生成する化学種を同定するとともに触媒3と反応したサンプルガスを分析するための加熱装置1において、加熱ブロック2内に触媒3を収容した複数の反応槽兼加熱室4a,4bを設け、それぞれの反応槽兼加熱室にサンプルガスS1 ,S2 を流通させるためのガス入口5およびガス出口6を設けている。

請求項（抜粋）：

サンプルガス中の特定成分と反応する触媒等の材料を加熱して、この材料の表面に生成する化学種を同定するとともに前記材料と反応したサンプルガスを分析するための加熱装置において、加熱ブロック内に前記材料を収容した複数の反応槽兼加熱室を設け、それぞれの反応槽兼加熱室に前記サンプルガスを流通させるためのガス入口およびガス出口を設けたことを特徴とする加熱装置。

IPC (3件)：

G01N 31/10 ,  G01N 21/35 ,  G01N 25/20

FI (3件)：

G01N 31/10 ,  G01N 21/35 Z ,  G01N 25/20 Z