レーザー露光装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-240238
公開番号（公開出願番号）：特開平6-215408
出願日： 1992年09月09日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：

【要約】【目的】レーザー露光により感光材料に変調された微小なパターンを記録した原盤から複数の成形レプリカをする際の形成ピット幅を細くする。【構成】超解像用のマスク22は、コリメーターレンズ16と光学ヘッド18との間にビームに対し垂直になるように設置する。また、ストライプ型のマスクは、ビームが照射される原盤に対し半径方向に複数のサイドローブとメインビームが並ぶように設置する。マスクパターンは、サイドローブのメインビーム強度に対する相対強度が40%以下であり、ストライプ型の場合には、複数のサイドローブとメインビームが半径方向に並ぶような構成である。

請求項（抜粋）：

感光性膜を設けた円盤を回転させながら対物レンズで集束させたレーザービームにて露光を行う光ディスク作成用のレーザー露光装置において、前記対物レンズにレーザの平行光を供給するコリメーターレンズと前記対物レンズとの間にストライプ状または円形状の遮光板を設置したことを特徴とするレーザー露光装置。

IPC (3件)：

G11B 7/135 , G03F 7/20 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平3-209644
特開平2-012625
特開平2-091829

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