特許
J-GLOBAL ID:200903004275077764
排ガス冷却方法および排ガス冷却装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐々木 宗治 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-140514
公開番号(公開出願番号):特開2001-314725
出願日: 2000年05月12日
公開日(公表日): 2001年11月13日
要約:
【要約】【課題】 迅速に水滴の蒸発を完了でき、少ない滞留時間でも未蒸発水滴を発生させない、安定した排ガス冷却を行うことができる排ガス冷却方法および排ガス冷却装置を提供すること。【解決手段】 排ガスを水噴霧により乾式で冷却する方法であって、100°C以上かつ1kgf/cm2 以上の熱水を排ガスに噴霧することにより、排ガスを所定温度またはこれ以下に冷却する。
請求項(抜粋):
排ガスを水噴霧により乾式で冷却する方法において、100°C以上かつ1kgf/cm2 以上の熱水を排ガスに噴霧することにより、該排ガスを所定温度またはこれ以下に冷却することを特徴とする排ガス冷却方法。
IPC (5件):
B01D 51/00
, B01D 51/10
, B05B 1/02
, B05B 7/02
, F23J 15/06
FI (5件):
B01D 51/00 B
, B01D 51/10 A
, B05B 1/02
, B05B 7/02
, F23J 15/00 K
Fターム (25件):
3K070DA09
, 3K070DA39
, 4F033AA05
, 4F033BA04
, 4F033CA01
, 4F033CA02
, 4F033CA03
, 4F033GA01
, 4F033HA02
, 4F033HA04
, 4F033QA04
, 4F033QB02Y
, 4F033QB03X
, 4F033QB12Y
, 4F033QB15X
, 4F033QC02
, 4F033QC03
, 4F033QC07
, 4F033QD13
, 4F033QE05
, 4F033QF02X
, 4F033QF07Y
, 4F033QG33
, 4F033QG35
, 4F033QG38
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