特許

J-GLOBAL ID：200903004278346014

位置検出方法、位置調整方法、走査露光方法及び走査型露光装置並びにデバイス製造方法

発明者： 萩原 恒幸
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-196953
公開番号（公開出願番号）：特開2000-031015
出願日： 1998年07月13日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：

【要約】【課題】 走査露光中に感応基板又はマスクの位置を高精度に検出する。【解決手段】マスクR側の投影光学系PLの投影視野(イメージサークル)内に位置する照明領域IAR、IBRを露光光ILにより照明し、マスクRと感応基板Wとの同期移動中に、照明領域の1つ(IBR)を検出用照明領域として、Y方向、X方向、及びZ方向の内の少なくとも一方向に関するマスクR及び感応基板Wの少なくとも一方の位置又は両者の相対位置を、位置検出装置30により露光光を使って光学的に検出する。通常、投影光学系PLは露光光の波長に対して収差が殆どないように結像性能が調整されていることから、走査露光中に露光光を用いて殆ど無収差でマスク及び感応基板の少なくとも一方の位置又は両者の相対位置を高精度に検出することができる。

請求項（抜粋）：

マスクと感応基板とを第1方向に同期移動させつつ前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して感応基板上に逐次転写する走査露光を行う際の位置検出方法において、前記マスク側の前記投影光学系の投影視野内に位置する複数の照明領域を露光光により照明し、前記マスクと感応基板との前記同期移動中に、前記複数の照明領域の少なくとも1つを検出用照明領域として、前記第1方向、前記マスクの移動面内で前記第1方向に直交する第2方向、及び前記第1、第2方向に直交する第3方向の内の少なくとも一方向に関する前記マスク及び前記感応基板の少なくとも一方の位置又は両者の相対位置を前記露光光を使って光学的に検出することを特徴とする位置検出方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (6件)：

H01L 21/30 518 ,  G01B 11/00 A ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 E ,  H01L 21/30 525 X

Fターム (47件)：

2F065BB27 ,  2F065CC18 ,  2F065CC19 ,  2F065CC20 ,  2F065DD06 ,  2F065FF02 ,  2F065FF10 ,  2F065FF55 ,  2F065GG04 ,  2F065HH03 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065LL24 ,  2F065LL30 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065LL46 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065PP23 ,  2F065UU01 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046CC06 ,  5F046CC10 ,  5F046CC13 ,  5F046CC16 ,  5F046CC18 ,  5F046DA02 ,  5F046DA14 ,  5F046EA02 ,  5F046EB03 ,  5F046ED03 ,  5F046FA02 ,  5F046FA10 ,  5F046FB07 ,  5F046FB08 ,  5F046FB20 ,  5F046FC05