特許
J-GLOBAL ID：200903004286626441

マスクの製造方法

発明者：
今井 彰

今井 彰 について

, 
岡崎 信次

岡崎 信次 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 秋田 収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-163266
公開番号（公開出願番号）：特開平9-015834
出願日： 1995年06月29日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：
【要約】【目的】 ディストーション誤差による重ね合わせ精度劣化を抑え、高重ね合わせ精度でパタンを転写する。【構成】 マスク上に形成されたマスクパタンを結像光学系を介して基板上に投影露光することにより該マスクパタンを基板上に転写するマスクパタン転写方法において用いる結像光学系のディストーション誤差を測定する工程と、該測定により得たディストーション誤差を補正するようにマスクパタン位置を調整したマスクを製造する工程とを含むマスクの製造方法により構成される。
請求項（抜粋）：
マスク上に形成されたマスクパタンを結像光学系を介して基板上に投影露光することにより、上記基板上に形成されたパタンに該マスクパタンを重ね合わせ転写するパタン転写方法で用いるマスクの製造方法において、上記結像光学系を介して基板上に投影されたマスクパタン投影像の結像位置と上記基板上に形成されたパタンとの重ね合わせ誤差を小さくするように、マスクパタン位置に対するマスクパタン投影像結像位置のずれと上記基板上に形成されたパタンのウエハ処理プロセスにより生じるパタン位置歪みを補正するように上記マスクパタンのマスク上の位置を調整する工程を含むことを特徴とするマスクの製造方法。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 1/08 D ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 516 A
引用特許：
出願人引用 (7件)
  • 特開平1-074547
  • 投影露光方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-226889   出願人：株式会社日立製作所
  • 位置合わせ方法および装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-059330   出願人：キヤノン株式会社
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審査官引用 (19件)
  • 特開平1-074547
  • 特開平1-074547
  • 特開平1-074547
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