特許

J-GLOBAL ID：200903004287495278

セシウム吸着剤と放射性核種除去方法

発明者： 小川 尚樹 ,  田村 和久 ,  小華和 治 ,  衣笠 敦志 ,  上村 一秀 ,  神吉 秀起
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (4件)： 奥山 尚一 ,  有原 幸一 ,  松島 鉄男 ,  河村 英文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-094043
公開番号（公開出願番号）：特開2007-271306
出願日： 2006年03月30日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：

【課題】 廃液に含まれる放射性核種のうち、水溶性のセシウム(Cs)とストロンチウム(Sr)については、効果的な除去手段がなく、無機系の吸着材による吸着除去が行われているが、吸着材の交換コストがシステムの運転費を押し上げる原因となっている。【解決手段】 放射性核種を含有する廃液を、脱窒菌又はセシウム蓄積菌で処理してセシウムを吸着除去するセシウム除去工程を含んでなる放射性核種の除去方法を提供する。この放射性核種の除去方法は、好ましくは、上記セシウム除去工程後の廃液を、キトサンを充填した吸着カラムに通してストロンチウムを吸着除去する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

脱窒菌を含んでなるセシウム吸着剤。

IPC (2件)：

G21F 9/18 ,  G21F 9/12

FI (2件)：

G21F9/18 ,  G21F9/12 501Z