特許

J-GLOBAL ID：200903004289199595

膜分離活性汚泥処理装置及び膜分離活性汚泥処理方法

発明者： 渡辺 義公 ,  小澤 源三 ,  笹川 学
出願人/特許権者： 渡辺 義公 ,  小澤 源三 ,  笹川 学 ,  東レ株式会社
代理人 (1件)： 谷川 英次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-054573
公開番号（公開出願番号）：特開2004-261711
出願日： 2003年02月28日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：

【課題】好気処理と無酸素処理とを連続的に同時に実施することが可能な、効率的な膜分離活性汚泥装置および方法を提供すること。【解決手段】好気性処理および無酸素処理を行う単一の反応槽と、その反応槽の内部に配置された浸漬膜分離ユニットと、曝気手段とを有する膜分離活性汚泥処理装置であって、反応槽は、底部が反応槽の底面から離間して設けられた仕切板によって複数個の区画に分割され、その複数個の区画内の少なくとも一つに浸漬膜分離ユニットおよび曝気手段が配置され、残りの区画内を好気状態から無酸素状態に、また、無酸素状態から好気状態に切り換えるための液位制御手段又は仕切板の高さ制御手段が設けられている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

好気性処理および無酸素処理を行う単一の反応槽と、その反応槽の内部に配置された浸漬膜分離ユニットと、曝気手段とを有する膜分離活性汚泥処理装置であって、反応槽は、底部が反応槽の底面から離間して設けられた仕切板によって複数個の区画に分割され、その複数個の区画内の少なくとも一つに浸漬膜分離ユニットおよび曝気手段が配置され、残りの区画内を好気状態から無酸素状態に、また、無酸素状態から好気状態に切り換えるための液位制御手段又は仕切板の高さ制御手段が設けられていることを特徴とする膜分離活性汚泥処理装置。

IPC (3件)：

C02F3/12 ,  C02F1/44 ,  C02F3/34

FI (6件)：

C02F3/12 S ,  C02F3/12 B ,  C02F3/12 H ,  C02F1/44 F ,  C02F3/34 101A ,  C02F3/34 101C

Fターム (25件)：

4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA41 ,  4D006KA01 ,  4D006KB22 ,  4D006KB23 ,  4D006KE21Q ,  4D006PB08 ,  4D006PC63 ,  4D028AA08 ,  4D028BC14 ,  4D028BC19 ,  4D028BD00 ,  4D028CA04 ,  4D028CC04 ,  4D028CD05 ,  4D040BB07 ,  4D040BB24 ,  4D040BB32 ,  4D040BB54 ,  4D040BB64 ,  4D040BB72 ,  4D040BB91