置換ジフェニルメチレン架橋された置換インデニル-置換フルオレニル化合物およびその製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-109618
公開番号（公開出願番号）：特開2002-371019
出願日： 2002年04月11日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：

【要約】【課題】置換ジフェニルメチレン架橋された置換インデニル-置換フルオレニル化合物を経済的に製造する。【解決手段】下記一般式(2)(R1は各々独立して水素原子、ハロゲン、または炭素数1〜20の炭化水素基、ケイ素含有炭化水素基、窒素含有炭化水素基もしくは酸素含有炭化水素基、R3は各々独立して水素原子、ハロゲン、または炭素数1〜20の炭化水素基、ケイ素含有炭化水素基、窒素含有炭化水素基もしくは酸素含有炭化水素基)で表される化合物のベンゾ環に周期表第6、7または8族の遷移金属が配位した置換遷移金属アレーン化合物と、下記一般式(3)(R2は各々独立して水素原子、ハロゲン、または炭素数1〜20の炭化水素基、ケイ素含有炭化水素基、窒素含有炭化水素基もしくは酸素含有炭化水素基、M1はアルカリ金属)で表される置換フルオレニルアニオンとを反応させる。【化1】【化2】

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)【化1】(ここで、R1は各々独立して水素原子、ハロゲン、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素基、炭素数1〜20の窒素含有炭化水素基または炭素数1〜20の酸素含有炭化水素基であり、R2は各々独立して水素原子、ハロゲン、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素基、炭素数1〜20の窒素含有炭化水素基または炭素数1〜20の酸素含有炭化水素基であり、R3は各々独立して水素原子、ハロゲン、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素基、炭素数1〜20の窒素含有炭化水素基または炭素数1〜20の酸素含有炭化水素基である。)で表される置換ジフェニルメチレン架橋された置換インデニル-置換フルオレニル化合物。

IPC (3件)：

C07C 13/547 , C07C 43/21 , C07F 11/00

FI (3件)：

C07C 13/547 , C07C 43/21 , C07F 11/00 A

Fターム (9件)：

4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB40 , 4H006BA81 , 4H006GP02 , 4H050AA01 , 4H050AB40 , 4H050WB11 , 4H050WB21

引用特許：

審査官引用 (1件)

ビスインデニル型のブリッジドキラルメタロセン触媒の製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-141949 出願人：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト

引用文献：

審査官引用 (3件)

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