特許
J-GLOBAL ID：200903004323653969
放電プラズマ処理装置及び放電プラズマ処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西村 知浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-332124
公開番号（公開出願番号）：特開2007-141583
出願日： 2005年11月16日
公開日（公表日）： 2007年06月07日
要約：
【課題】簡易な構造で製造コストを抑制でき、装置の製品寿命の低下を防止するとともに被処理体に対する処理精度を向上させ被処理体にプラズマダメージを生じさせない放電プラズマ処理装置及び放電プラズマ処理方法を得る。【解決手段】第3電極18から所定距離以上に離間した第1電極12と第2電極16との間にプラズマ化するガスが供給され第1電極12に高周波電圧が印加されて第1電極12と第2電極16との間にプラズマP1を発生させる。第1電極12と第3電極18との離間距離が小さくなるように第1電極12が第2電極16とともに第3電極18側に移動される。第1電極12が第2電極16とともに第3電極18側に移動され、第1電極12と第3電極18との間にプラズマ化するガスが供給されて第1電極12と第3電極18との間にプラズマを発生させる。この発生したプラズマにより被処理体26の処理が行われる。【選択図】 図1
請求項１：
高周波電圧が印加される第1の電極と、
前記第1の電極に対して対向するように配置され、アース接続された第2の電極と、
前記第1の電極と対向するように前記第2の電極の反対側に配置され、アース接続された第3の電極と、
前記第1の電極に高周波電圧を印加する高周波電源と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間及び前記第1の電極と前記第3の電極との間にプラズマ化するガスを供給するガス供給手段と、
前記第1の電極の前記第3の電極に対する離間距離を変更する方向に前記第1の電極を前記第2の電極とともに移動させる駆動手段と、
を含んで構成されたことを特徴とする放電プラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H 1/24
, H05H 1/46
, H01L 21/306
H05H1/24
, H05H1/46 M
, H01L21/302 101B
5F004AA16
, 5F004BA06
, 5F004BA07
, 5F004BB28
, 5F004CA05
出願人引用 (1件)
-
プラズマ装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-367651
出願人：エム・シー・エレクトロニクス株式会社
審査官引用 (8件)
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