特許

J-GLOBAL ID：200903004323886840

電子ビーム描画方法および装置

発明者： 早田 康成 ,  太田 洋也 ,  谷本 明佳 ,  村木 真人
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-053412
公開番号（公開出願番号）：特開2002-260981
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2002年09月13日
要約：

【要約】【目的】 一括図形照射法の制約要因を低減し電子ビーム描画装置の高速化を図る。【構成】 個々にブランキングが可能な複数の電子ビームで、大きさが可変の領域内をラスター走査する工程を、領域の大きさに対応した間隔で逐次繰り返すことによって試料上に所望のパターンを描画する。

請求項１：

個々にブランキングが可能な複数の電子ビームで複数の微小領域を同時に走査するとともに微小領域の数あるいは大きさを所望のパターンに応じて制御して複数の微小領域により形成される全体としての大きさが可変の領域内を走査する工程を、前記可変の領域の大きさに対応した間隔で逐次繰り返すことによって試料上に前記パターンを描画する電子ビーム描画方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 504

FI (5件)：

G03F 1/16 Z ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 J ,  H01L 21/30 541 S ,  H01L 21/30 541 W

Fターム (13件)：

2H095BA09 ,  2H095BB10 ,  2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5F056AA06 ,  5F056AA12 ,  5F056AA13 ,  5F056AA33 ,  5F056CA02 ,  5F056CA05 ,  5F056CA22 ,  5F056CB05