特許
J-GLOBAL ID:200903004326468844
水溶性フォトレジスト膜の硬膜方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
間宮 武雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-018959
公開番号(公開出願番号):特開平7-207464
出願日: 1994年01月17日
公開日(公表日): 1995年08月08日
要約:
【要約】【目的】 カゼインを基材としたフォトレジスト膜の硬膜処理において、硬膜剤としてクロムを用いずに、解像性、耐酸性、金属薄板との密着性に優れ十分な強度を有し錆を発生させないレジスト膜が得られる方法を提供する。【構成】 硬膜液として、少なくともアルデヒドと金属塩とを含有する溶液を使用し、この硬膜液に、露光、現像処理後のフォトレジスト膜が表面に被着形成された金属薄板を浸漬させ、その後にバーニング処理する。
請求項(抜粋):
カゼインを基材とした露光、現像処理後のフォトレジスト膜が表面に被着形成された金属薄板を硬膜液に浸漬させた後、バーニング処理して、前記フォトレジスト膜を硬膜処理する水溶性フォトレジスト膜の硬膜方法において、前記硬膜液として、少なくともアルデヒドと金属塩とを含有する溶液を使用することを特徴とする水溶性フォトレジスト膜の硬膜方法。
IPC (6件):
C23F 1/00
, C23F 1/00 102
, G03F 7/40 501
, G03F 7/40 502
, H01J 9/14
, H01L 21/027
FI (2件):
H01L 21/30 570
, H01L 21/30 571
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