特許

J-GLOBAL ID：200903004328846650

レジスト剥離剤

発明者： 高瀬 雄造 ,  高畑 忠雄 ,  石塚 義次 ,  近藤 圭英
出願人/特許権者： 旭電化工業株式会社
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-267432
公開番号（公開出願番号）：特開平6-116755
出願日： 1992年10月06日
公開日（公表日）： 1994年04月26日
要約：

【要約】【構成】 下式のアルカノールアミンの水溶液【化3】(式中、R は水素、メチル基、ヒドロキシエチル基又はヒドロキシプロピル基を表し、それぞれ同一の基又は異なる基であっても良く、R'はエチレン基を表し、nは0〜4の値である。尚、nが0の時、R は少なくとも一つは水素以外の基である。)又は、上記のアルカノールアミンに蟻酸、酢酸、しゅう酸、硫酸、燐酸及びほう酸からなる群から選択される1種又は2種以上の酸を添加した水溶液からなることを特徴とするアルミニウムと接液する場合において使用されるレジスト剥離剤。【効果】 アルミニウム腐食がなく、或いは極めて小さく、アルミニウム素材を使用した基板から容易に水溶性レジストを剥離除去出来る。

請求項（抜粋）：

下式のアルカノールアミンの水溶液からなることを特徴とするアルミニウムと接液する場合において使用されるレジスト剥離剤。【化1】(式中、R は水素、メチル基、ヒドロキシエチル基又はヒドロキシプロピル基を表し、それぞれ同一の基又は異なる基であっても良く、R'はエチレン基を表し、nは0〜4の値である。尚、nが0の時、R は少なくとも一つは水素以外の基である。)

IPC (2件)：

C23F 1/00 104 ,  H01L 21/027