特許
J-GLOBAL ID:200903004329262481

水処理方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉岡 宏嗣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-106411
公開番号(公開出願番号):特開2006-281129
出願日: 2005年04月01日
公開日(公表日): 2006年10月19日
要約:
【課題】 処理水の再汚染を防止するための塩素剤の使用率を低減でき、かつ処理水の再汚染を抑制する。【解決手段】 被処理水に金属イオン(12)と過酸化水素(11)を注入して、金属イオンと過酸化水素とのフェントン反応により生成されるラジカルにより被処理水中の有機物を酸化分解する工程(21)と、該工程から排出される被処理水にオゾン(5,13)の気泡を注入して有機物を酸化分解して処理水を生成する工程(22)とを有し、処理水の設定時間後におけるオゾン濃度を設定値以上に保持するように、オゾンの注入率を調整することにより、処理水の再汚染を防止するための塩素剤の使用率を低減して、かつ処理水の再汚染を抑制する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
被処理水中の有機物を金属イオンと過酸化水素とのフェントン反応により生成されるラジカルにより酸化分解し、前記被処理水にオゾンの気泡を注入して前記有機物を酸化分解する水処理方法において、 処理水の設定時間後におけるオゾン濃度を設定値以上に保持するように、前記オゾンの注入率を調整することを特徴とする水処理方法。
IPC (2件):
C02F 1/78 ,  C02F 1/72
FI (2件):
C02F1/78 ,  C02F1/72 Z
Fターム (7件):
4D050AA12 ,  4D050AB11 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BC07 ,  4D050BD03 ,  4D050BD08
引用特許:
出願人引用 (2件)

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