特許
J-GLOBAL ID：200903004347317757
マイクロ波プラズマ処理方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-240905
公開番号（公開出願番号）：特開平5-082289
出願日： 1991年09月20日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：
【要約】【目的】マイクロ波によって生成されるプラズマを高密度、高均一なプラズマとし、被処理物を高速で高均一処理する。【構成】マイクロ波を真空容器内に導入して真空容器内の処理ガスをプラズマ化し、被処理物をプラズマ処理するマイクロ波プラズマ処理装置において、真空容器内のプラズマ密度分布を測定する測定手段と、プラズマ密度分布の測定値によってマイクロ波出力,処理圧力,処理ガス流量のいずれかまたは全てを制御する制御手段と、マイクロ波の出力整合を行なう整合手段とを具備する。
請求項（抜粋）：
マイクロ波を真空容器内に導入して前記真空容器内の処理ガスをプラズマ化し、被処理物をプラズマ処理するマイクロ波プラズマ処理方法において、前記真空容器内に生成したプラズマの密度分布を計測し、該計測した結果に基づいてプラズマ操作因子を制御することを特徴とするマイクロ波プラズマ処理方法。
IPC (6件)：
H05H 1/00
, C23C 16/52
, H01L 21/302
, H01P 5/00
, H05H 1/46
, H01L 21/31
