基板処理装置及び基板処理方法並びに基板の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：青木宏義 , 西山善章 , 水野浩司 , 中村俊郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-177099
公開番号（公開出願番号）：特開2005-340846
出願日： 2005年06月17日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：

【課題】最小単位の装置のブロック構成化を図ることにより装置の配置構成に自由度を向上させ、装置構成上の問題を伴うことなく装置全体の小型化が向上し装置全体のフットプリントを小さくすること。【解決手段】被処理基板Gに対して所定の処理を施す処理部を一方向に複数配置して構成された処理部配置部21〜23と、この処理部配置部内に設けられ被処理基板Gを搬送する第1の搬送機構16と、この処理部配置部外かつ一方向のほぼ延長線上に固定して、または一方向のほぼ延長線上に対して直交する方向に固定して、または/及び一方向の延長線上と平行する線上を移動自在に設けられ、第1の搬送機構16に対して直接或いは間接的に被処理基板Gを受け渡し自在に構成された第2の搬送機構11〜15と、を具備する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理基板をローラ搬送で搬送するローラ搬送機構を内部に備えるとともに被処理基板をローラにて搬送しつつ前記被処理基板に対して洗浄処理を施す洗浄処理部と、被処理基板を非ローラ搬送で搬送する第一の非ローラ搬送機構を内部に備えるとともに第一の非ローラ搬送機構にて搬送される被処理基板に対してレジストを塗布する処理を施す処理部を内部に備えたレジスト塗布処理部と、前記洗浄処理部及び前記レジスト塗布処理部外かつ前記洗浄処理部と前記レジスト塗布処理部との間に配置され被処理基板を搬送する第二の非ローラ搬送機構と、前記洗浄処理部及び前記レジスト塗布処理部外かつ前記第二の非ローラ搬送機構の前記洗浄処理部側または/及び前記レジスト塗布処理部側に配置されると共に前記ローラ搬送機構または/及び第一の非ローラ搬送機構による被処理基板を搬送する搬送高さ位置より高い位置に配置され被処理基板に所定の熱処理を施す熱処理室を複数積層して設けられた熱処理部と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L21/68 , B65G49/06 , B65G49/07 , H01L21/027

FI (5件)：

H01L21/68 A , B65G49/06 Z , B65G49/07 B , H01L21/30 564Z , H01L21/30 569D

Fターム (46件)：

5F031CA05 , 5F031DA01 , 5F031FA02 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA14 , 5F031FA15 , 5F031GA04 , 5F031GA06 , 5F031GA30 , 5F031GA35 , 5F031GA37 , 5F031GA38 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031GA53 , 5F031HA08 , 5F031HA13 , 5F031HA33 , 5F031HA48 , 5F031HA59 , 5F031KA03 , 5F031LA15 , 5F031MA02 , 5F031MA03 , 5F031MA06 , 5F031MA09 , 5F031MA23 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F031MA30 , 5F031NA02 , 5F031NA09 , 5F031NA16 , 5F031NA17 , 5F031PA06 , 5F031PA11 , 5F031PA23 , 5F031PA30 , 5F046JA01 , 5F046JA20 , 5F046KA04 , 5F046KA08 , 5F046LA11

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平2-144333号公報
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-256565 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-265329 出願人：東京エレクトロン株式会社

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審査官引用 (4件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-256565 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-265329 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-056534 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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