特許

J-GLOBAL ID：200903004364892935

ZnO薄膜を有する材料及びその製造方法

発明者： 瀬川 勇三郎 ,  張 保平
出願人/特許権者： 理化学研究所
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-267114
公開番号（公開出願番号）：特開2004-099412
出願日： 2002年09月12日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：

【課題】量産性と配向性に優れたZnO薄膜を含有するZnO薄膜材料の提供、及びMOCVD法を用いた量産性及び配向性に優れたZnO薄膜材料の製造方法の提供。【解決手段】表面粗さが0.2〜5nmであるサファイア基板の(0001)面上に表面がZn原子からなるZn面を有するZnO薄膜を形成してなり、あるいは有機金属化学気相エピタキシー法(MOCVD法)を用いて、圧力が0.045Torr以下である成長室内において、基板温度が室温〜275°Cであるサファイア基板の(0001)面上に6×10-8〜2×10-6 mol/cm2/minの流量で有機亜鉛化合物を導入し、さらに有機亜鉛化合物を導入しながら酸素含有ガス雰囲気中でZnO薄膜を成長させることにより、表面がZn原子からなるZnO薄膜を形成する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

サファイア基板の(0001)面上にZnO薄膜が形成されたZnO薄膜を有する材料であって、前記サファイア基板の(0001)面の表面粗さが0.2〜5nmであり、かつ前記ZnO薄膜の表面がZn原子からなるZn面であることを特徴とする前記材料。

IPC (3件)：

C30B29/16 ,  C23C16/40 ,  H01L21/365

FI (3件)：

C30B29/16 ,  C23C16/40 ,  H01L21/365

Fターム (33件)：

4G077AA03 ,  4G077BB07 ,  4G077DB08 ,  4G077EA02 ,  4G077ED04 ,  4G077ED05 ,  4G077ED06 ,  4G077HA11 ,  4G077TA04 ,  4G077TB05 ,  4G077TK04 ,  4G077TK06 ,  4K030AA11 ,  4K030BA47 ,  4K030BB02 ,  4K030CA05 ,  4K030FA10 ,  4K030JA09 ,  4K030JA10 ,  4K030JA20 ,  4K030LA13 ,  5F045AA04 ,  5F045AB22 ,  5F045AC09 ,  5F045AC11 ,  5F045AD04 ,  5F045AD05 ,  5F045AD06 ,  5F045AE17 ,  5F045AF09 ,  5F045BB12 ,  5F045CA10 ,  5F045CA12