特許

J-GLOBAL ID：200903004380915872

露光用基板と露光用マスク及び露光用基板の製造方法

発明者： 伊藤 信一 ,  川野 健二 ,  岩松 孝行
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-273980
公開番号（公開出願番号）：特開平8-137094
出願日： 1994年11月08日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：

【要約】【目的】 膜厚の分布によらず、面内で均一な位相差と透過率を得ることのできる露光用マスクを提供すること。【構成】 透光性基板上に該基板に対して所望の位相差と透過率を有する半透明膜パターンを備えた露光用マスクにおいて、半透明膜の膜厚の違いに応じて該半透明膜に光を選択的に照射し、半透明膜の元素組成比を調整するなどして半透明膜パターンの複素屈折率を調整することで、基板面内で均一な位相差と強度透過率を得ることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

透光性基板上に該基板に対して所望の位相差と透過率を有する半透明膜を備えた露光用基板において、前記半透明膜の複素屈折率又は元素組成比が、該半透明膜の膜厚に応じて調整されてなることを特徴とする露光用基板。

IPC (3件)：

G03F 1/14 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-136854
  
• ハーフトーンフォトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-029014   出願人：三菱電機株式会社