特許

J-GLOBAL ID：200903004384479392

パターン形成体の製造方法

発明者： 下村 剛哉 ,  栗原 正彰 ,  吉田 幸司 ,  鈴木 勝敏
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (2件)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-282942
公開番号（公開出願番号）：特開2008-100378
出願日： 2006年10月17日
公開日（公表日）： 2008年05月01日
要約：

【課題】本発明は、インプリント時における樹脂漏れを防止することができるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】本発明は、親液層および撥液層が表面に形成された基板を用い、上記親液層上に被転写樹脂層形成用塗工液を塗布し、被転写樹脂層を形成する被転写樹脂層形成工程と、上記被転写樹脂層に対して、凹凸パターン部を有するモールドを密着させ、密着積層体を形成する密着積層体形成工程と、上記密着積層体の被転写樹脂層を硬化させる硬化工程と、を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

親液層および撥液層が表面に形成された基板を用い、前記親液層上に被転写樹脂層形成用塗工液を塗布し、被転写樹脂層を形成する被転写樹脂層形成工程と、 前記被転写樹脂層に対して、凹凸パターン部を有するモールドを密着させ、密着積層体を形成する密着積層体形成工程と、 前記密着積層体の被転写樹脂層を硬化させる硬化工程と、 を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。

IPC (4件)：

B29C 59/02 ,  B29C 39/10 ,  H01L 21/027 ,  B29C 33/38

FI (4件)：

B29C59/02 Z ,  B29C39/10 ,  H01L21/30 502D ,  B29C33/38

Fターム (37件)：

4F202AJ06 ,  4F202AM32 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CD24 ,  4F204AA44 ,  4F204AD27 ,  4F204AD33 ,  4F204AF01 ,  4F204AG03 ,  4F204AG05 ,  4F204AH33 ,  4F204AH73 ,  4F204EA03 ,  4F204EB01 ,  4F204EB11 ,  4F204EE02 ,  4F204EE21 ,  4F204EK17 ,  4F204EK18 ,  4F204EK21 ,  4F209AA44 ,  4F209AD27 ,  4F209AD33 ,  4F209AF01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PG02 ,  4F209PH02 ,  4F209PH21 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許6,996,220号