成形用金属薄膜積層体

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-283502
公開番号（公開出願番号）：特開2000-094575
出願日： 1998年09月18日
公開日（公表日）： 2000年04月04日
要約：

【要約】【課題】プラスチックの射出成形品および押出成形品等の分野において、特に成形物面が平面でない場合に良好な金属光沢をこれらの成形物(製品)表面に付与するための同時成形等に使用する成形用金属薄膜積層体を提供する。【解決手段】フイルム基材に、少なくとも金属薄膜層を形成・積層した積層体であって、金属薄膜層がインジウム又はインジウム系合金である金属または合金からなる厚さ10〜30nmの金属薄膜層であり、フイルム基材がエチレンテレフタレート単位が85mol%以上でエチレンテレフタレート以外の単位が3mol%以上であるポリエステル系フイルムである成形用金属薄膜積層体。

請求項（抜粋）：

フイルム基材に、少なくとも金属薄膜層を形成・積層した積層体であって、金属薄膜層がインジウム又はインジウム系合金である金属または合金からなる厚さ10〜30nmの金属薄膜層であり、フイルム基材がエチレンテレフタレート単位が85mol%以上でエチレンテレフタレート以外の単位が3mol%以上であるポリエステル系フイルムである、ことを特徴とする成形用金属薄膜積層体。

IPC (7件)：

B32B 15/08 , B32B 15/08 104 , B32B 27/36 , B29C 45/16 , B29C 47/04 , B29K 67:00 , B29L 9:00

FI (5件)：

B32B 15/08 H , B32B 15/08 104 Z , B32B 27/36 , B29C 45/16 , B29C 47/04

Fターム (24件)：

4F100AB01B , 4F100AB31B , 4F100AB40B , 4F100AK25D , 4F100AK42A , 4F100AK42K , 4F100AR00C , 4F100AT00A , 4F100BA02 , 4F100BA04 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10B , 4F100EJ91A , 4F100GB90 , 4F100HB31C , 4F100HB31D , 4F100JA04A , 4F100JK14 , 4F100JL14C , 4F100JM02B , 4F100JN24 , 4F100YY00A , 4F100YY00B

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平3-067629
特開平3-067629
特開平2-204020

全件表示

前のページに戻る