特許
J-GLOBAL ID：200903004403613607
写真カプラーの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青木 朗 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-166136
公開番号（公開出願番号）：特開平5-188540
出願日： 1992年06月24日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：
【要約】【構成】 フェノキシカプリング離脱基の2位にアミノメチル基を有するフェノキシカプリング離脱基を含有する原カプラー部分(COUP)を含んでなる写真カプラーの製造方法であって、(A)(a)2位にヒドロキシアルキル基またはヒドロキシアリール基を有し、その水酸基がアルキル基またはアリール基のα炭素原子上に存在するフェノキシカプリング離脱基を含有するカプラー部分を、(b)ハロゲン化剤と周囲条件下で反応せしめる工程、それに続く(B)工程(A)由来の生成物をアミン化合物と反応せしめる工程を含んでなる方法。【効果】 前記方法の生成物は、ホスゲンまたはビスチオ化合物と反応させることにより写真カプラーを生成するのに有用な中間体を生成することができる。こうして得られた生成物は、写真ハロゲン化銀材料および処理材料で有用である。
請求項（抜粋）：
フェノキシカプリング離脱基の2位にアミノアルキル基またはアミノアリール基を有するフェノキシカプリング離脱基を含む原カプラー部分(COUP)を含んでなる写真カプラーの製造方法であって、(a)2位にヒドロキシアルキル基またはヒドロキシアリール基を有し、その水酸基がそのアルキルまたはアリールのα炭素上に存在するフェノキシカプリング離脱基を含むカプラー部分をハロゲン化化合物と反応させて第一の生成物を生成する工程、(b)工程(a)由来の前記生成物をアミノ化合物と反応させて第二の生成物を生成する工程、(c)前記第二の生成物をホスゲンと反応させ、次いで写真現像抑制剤化合物と反応させて、写真材料の露光および処理によって写真材料中に前記現像抑制剤化合物を放出する写真カプラーを生成する工程、を含んでなる製造方法。
IPC (2件)：
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