特許

J-GLOBAL ID：200903004405164257

基板乾燥処理を含む基板処理装置及び基板乾燥方法

発明者： 鈴木 聡 ,  松村 吉雄
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-272643
公開番号（公開出願番号）：特開2000-100774
出願日： 1998年09月28日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】 エアーナイフを使った乾燥処理を含む基板処理装置において、基板に減圧下で処理を施す次工程において不具合を発生させることを抑える。【解決手段】 洗浄装置1は、洗浄チャンバー3,4,6と、エアーナイフ乾燥チャンバー7と、減圧乾燥チャンバー8とを備える。洗浄チャンバー3,4,6では、基板に洗浄液を供給して洗浄する。エアーナイフ乾燥チャンバー7では、エアーナイフから基板に対して気体を吹き出して基板に付着した洗浄液を除去する。減圧乾燥チャンバー8では、基板を大気圧よりも小さい圧力下に保持して基板を乾燥させる。

請求項（抜粋）：

基板に処理液を供給して基板に処理を施す湿式処理チャンバーと、基板に対してスリットから気体を吹き出すエアーナイフを有し、前記湿式処理チャンバーの下流側に配置され、基板に付着した処理液を除去するエアーナイフ乾燥処理チャンバーと、前記エアーナイフ乾燥処理チャンバーの下流側に配置され、基板を大気圧よりも小さい圧力下に保持して乾燥させる減圧乾燥処理チャンバーと、を備えた基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  F26B 9/06 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

H01L 21/304 651 L ,  H01L 21/304 651 K ,  F26B 9/06 A ,  H01L 21/302 N

Fターム (16件)：

3L113AA03 ,  3L113AB09 ,  3L113AC11 ,  3L113AC19 ,  3L113AC23 ,  3L113AC30 ,  3L113AC35 ,  3L113AC47 ,  3L113AC60 ,  3L113BA34 ,  5F004AA14 ,  5F004BB05 ,  5F004BC06 ,  5F004DB26 ,  5F004FA01 ,  5F004FA08