特許

J-GLOBAL ID：200903004429064873

PVD成膜装置のシャッタ機構

発明者： 木曽田 欣弥 ,  戸内 八郎
出願人/特許権者： 中外炉工業株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-000306
公開番号（公開出願番号）：特開平9-184070
出願日： 1996年01月05日
公開日（公表日）： 1997年07月15日
要約：

【要約】【課題】 メインチャンバー内を汚染することなく、かつ、ダミー板を設けることなく、作業性よく基板に薄膜を形成するPVD成膜装置のシャッタ機構を提供する。【解決手段】 基板Wを搬送するメインチャンバー1と薄膜材料供給源Sを備えたサブチャンバー20とを開口部2を介して連通するPVD成膜装置において、前記メインチャンバー内に開口部を遮蔽する2枚のシャッタ板11a,11bを配設し、1枚あるいは連続する複数枚の基板の先端が開口部に至る時点で開口部を遮蔽していた第1シャッタ板を基板と隙間なく同期して移動させるとともに1枚あるいは複数枚の基板先端が開口部先端に至る時点で第1シャッタ板の移動を停止する一方、1枚あるいは複数枚の基板後端が開口部に至る時点で第2シャッタ板を基板後端と隙間なく同期させて移動させ、開口部を遮蔽する時点で第2シャッタ板を停止させるようにしたシャッタ機構。

請求項（抜粋）：

基板を搬送するメインチャンバーと薄膜材料供給源を備えたサブチャンバーとを開口部を介して連通するPVD成膜装置において、前記メインチャンバー内に前記開口部を遮蔽する2枚のシャッタ板を配設し、前記基板の先端が前記開口部に至る時点で開口部を遮蔽していた第1シャッタ板を基板と隙間なく同期して移動させるとともに基板の先端が前記開口部先端に至る時点で第1シャッタ板の移動を停止する一方、基板の後端が開口部に至る時点で第2シャッタ板を基板後端と隙間なく同期させて移動させ、第2シャッタ板が開口部を遮蔽する時点で第2シャッタ板を停止させることを特徴とするPVD成膜装置のシャッタ機構。