特許
J-GLOBAL ID：200903004431898560
位相反転マスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八田 幹雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-281066
公開番号（公開出願番号）：特開平9-146258
出願日： 1996年10月23日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：
【要約】【課題】 位相反転マスクの製造方法を提供する。【解決手段】 基板30上に遮光領域と透光領域とを限定する遮光パターン32を形成する段階と、遮光パターン32の形成された基板30上に位相反転膜34を厚く形成する段階と、前記位相反転膜34の表面を平坦化する段階と、前記位相反転膜34をパターニングして位相反転領域を限定する段階とを含むことにより、表面が平坦で均一な厚さを有する位相反転パターン34aを具備する位相反転マスクを形成することができる。
請求項（抜粋）：
基板上に遮光領域と透光領域とを限定する遮光パターンを形成する段階と、遮光パターンの形成された基板上に位相反転膜を形成する段階と、前記位相反転膜の表面を平坦化する段階と、前記位相反転膜をパターニングして位相反転領域を限定する段階とを含むことを特徴とする位相反転マスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
