基板表面の汚染度検出方法及び基板表面の汚染度検出装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤吉繁 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-061923
公開番号（公開出願番号）：特開平11-248617
出願日： 1998年02月27日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：

【要約】【課題】シリコンウエハーや石英などの大型基板表面の汚染度を効率的かつ精度良く非破壊で測定する手段はなかった。【解決手段】冷却機能を有し、表面に複数個の小突起を設け、該小突起上に検査対象である基板を載置するようした平坦な冷却プレートと;前記冷却プレートの上方に空間を隔てて位置し、前記冷却プレートに向けて平行光線を照射する様にした光線照射装置と;冷却プレートと光線照射装置との間の空間に上下移動可能に位置した散乱光観測用カメラ;とからなり、前記散乱光観測用カメラが捉えた散乱リングから検査対象である基板表面の汚染状況を検出する様にした。

請求項（抜粋）：

検査対象である基板の表面に多数の微小液滴を付着させ、該基板の上方あるいは下方からその微小液滴に向けて平行光線を照射し、微小液滴からの散乱光によって基板上方あるいは下方に生ずる散乱リングを光学的手段によって観察し、その直径、リング幅、リングの歪み、散乱リングの消失時間から基板表面の汚染状況を検出することを特徴とする基板表面の汚染度検出方法。

IPC (3件)：

G01N 13/00 , G01N 21/88 , H01L 21/66

FI (3件)：

G01N 13/00 , G01N 21/88 E , H01L 21/66 L

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