特許

J-GLOBAL ID：200903004443029126

ウエハステージ、ウエハステージの製造方法及びウエハ保持方法

発明者： 谷山 智洋
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-039412
公開番号（公開出願番号）：特開2000-243817
出願日： 1999年02月18日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
要約：

【要約】【課題】 ウエハステージ上に載置したウエハ裏面の損傷及びこの損傷によるパーティクルの発生を防止する。【解決手段】 ウエハ吸着面2aに昇降自在な3本のウエハ支持ピン4を立設してなるウエハステージにおいて、ウエハ支持ピン4は降下速度の調節が自在なものとした。また、ウエハ支持ピン4には、ウエハ支持ピン4の降下速度を調節するための制御手段5を設けた。この制御手段5は、ウエハ吸着面2a上においてウエハ支持ピン4を所定位置dにまで降下させて一時停止させ、ウエハ吸着面2aからの放射によってウエハWの温度がウエハ吸着面2aと同程度の温度に達した後、ウエハ支持ピン4の上端がウエハ吸着面2aよりも下方になるようにウエハ支持ピン4を再降下させ、ウエハ吸着面2a上にウエハWを降下載置させるものである。

請求項（抜粋）：

ウエハ吸着面に昇降自在なウエハ支持ピンを立設してなるウエハステージにおいて、前記ウエハ支持ピンは、降下速度の調節が自在であることを特徴とするウエハステージ。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/08

FI (2件)：

H01L 21/68 P ,  B23Q 3/08 A

Fターム (8件)：

3C016DA01 ,  5F031CA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA08 ,  5F031HA10 ,  5F031HA14 ,  5F031HA33 ,  5F031PA26