特許
J-GLOBAL ID:200903004446347579

調整用抵抗体並びに半導体装置およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-313424
公開番号(公開出願番号):特開2000-200876
出願日: 1999年11月04日
公開日(公表日): 2000年07月18日
要約:
【要約】【課題】 短時間で容易に電界効果型トランジスタの動作電流を最適化することができる半導体装置およびその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 半導体ウエハ上に半導体チップを形成し、半導体チップにレーザー光照射による加工が可能な複数の薄膜抵抗8、9、10、11の並列接続体で構成される調整用抵抗7を形成し、半導体チップの動作特性を測定し、測定された動作特性と予め設定された所定の動作特性との差が減少するように、複数の薄膜抵抗8、9、10、11のうち少なくとも一つをレーザー光照射により選択的に切断する。
請求項(抜粋):
光照射による切断が可能な複数の薄膜抵抗の並列接続体で構成される調整用抵抗体。
IPC (7件):
H01L 27/04 ,  H01L 21/822 ,  B23K 26/00 ,  H01C 7/00 ,  H01C 17/242 ,  H01L 21/82 ,  B23K101:38
FI (6件):
H01L 27/04 V ,  B23K 26/00 C ,  H01C 7/00 B ,  H01C 17/24 L ,  H01L 21/82 F ,  H01L 27/04 P
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 抵抗回路及びその調整方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-149527   出願人:ミツミ電機株式会社
  • 特開平2-094555
  • 特開平3-040405
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