特許

J-GLOBAL ID：200903004455038023

半導電性ゴムロールおよび画像形成装置

発明者： 大石 剛史 ,  西村 浩一
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-090901
公開番号（公開出願番号）：特開平11-272043
出願日： 1998年03月19日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：

【要約】【課題】 感光体汚染がなく、環境依存性が小さく、耐久性および耐圧縮永久歪み性に優れた低硬度の半導電性ゴムロールを提供することにある。【解決手段】 中心から順に(A)軸体、(B)(a)エピクロルヒドリン系ゴムを必須成分とするゴム成分(エピクロルヒドリン系ゴム含量50重量%以上)、(b)ηsp/Cが0.01〜0.5の低分子量エピクロルヒドリン系重合体(エピクロルヒドリン系ゴム100重量部に対して10〜150重量部)および(c)架橋剤(ゴム成分100重量部に対して0.1〜10重量部)を含有するエピクロルヒドリン系ゴム組成物を架橋して成る中間弾性層、ならびに(C)表面層の少なくとも三層を設けて多層半導電性ゴムロールを製造する。

請求項（抜粋）：

中心軸から順に(A)軸体、(B)(a)エピクロルヒドリン系ゴムを必須成分とするゴム成分、(b)低分子量エピクロルヒドリン系重合体および(c)架橋剤を含有するエピクロルヒドリン系ゴム組成物を架橋して成る中間弾性層、ならびに(C)表面層の少なくとも三層を有する多層半導電性ゴムロール。

IPC (8件)：

G03G 15/02 101 ,  B29D 23/00 ,  B32B 25/04 ,  B32B 25/14 ,  F16C 13/00 ,  G03G 15/08 501 ,  G03G 15/16 103 ,  B29K 19:00

FI (8件)：

G03G 15/02 101 ,  B29D 23/00 ,  B32B 25/04 ,  B32B 25/14 ,  F16C 13/00 B ,  F16C 13/00 E ,  G03G 15/08 501 D ,  G03G 15/16 103