特許
J-GLOBAL ID：200903004472139011
パターン転写装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-058500
公開番号（公開出願番号）：特開平7-273003
出願日： 1994年03月29日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：
【要約】【構成】レーザ装置2から取り出されるレーザ光1はビーム拡大器3により、液晶マスク4の全面を照射し、マーキングさせるパターン状の偏光方向を有するレーザ光は、偏光ビームスプリッタ5で反射して、結像レンズ6に入射し、液晶マスク4でのパターンが感光性樹脂7に転写される。ここで、感光性樹脂7ではパターンがぼかされて転写されるため、液晶マスク4において画素と画素との間に対応する部分にもレーザ光が照射され、マーキングされる。【効果】液晶マスクを用いても連続するパターン状にマーキングできるようになった。
請求項（抜粋）：
液晶マスクと結像光学系を含み、前記液晶マスクに表示された像を、ワーク表面より前記結像光学系側、または、前記ワーク内部に結像させることを特徴とするパターン転写装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
