特許
J-GLOBAL ID:200903004472397266

フォトマスクの製造方法、フォトマスク、反射板、および液晶表示素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-313160
公開番号(公開出願番号):特開2002-122979
出願日: 2000年10月13日
公開日(公表日): 2002年04月26日
要約:
【要約】【課題】 フォトマスクの製造時の描画工程において、ある走査と次の走査の繋ぎ目の位置精度が悪い場合、または、走査を行う光の照射量がわずかに変動する場合、これらは露光量の差異となって縞状のムラとなる。【解決手段】 走査の順序を走査方向に対して順に行わず、前後する順序で走査を行う。すなわち、走査幅W1の走査のち、一つ飛ばした幅W3を走査したのち、一つ戻ってW2を走査する、という順序とする。
請求項(抜粋):
光を基板面上で走査させて所定のパターンの描画を行う工程において、前記走査方向に所定の距離ごとに行う複数の走査を、前記走査方向に対して前後する順序で行うことを特徴とするフォトマスクの製造方法。
IPC (3件):
G03F 1/08 ,  G02F 1/1335 520 ,  G03F 7/20 501
FI (3件):
G03F 1/08 B ,  G02F 1/1335 520 ,  G03F 7/20 501
Fターム (17件):
2H091FA16Z ,  2H091FA34Y ,  2H091FC10 ,  2H091FC23 ,  2H091LA12 ,  2H091LA16 ,  2H095BB01 ,  2H095BB07 ,  2H095BB33 ,  2H095BB35 ,  2H097AA03 ,  2H097AA11 ,  2H097BB01 ,  2H097JA02 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  2H097LA17

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