特許

J-GLOBAL ID：200903004489194270

多重露光描画装置および多重露光描画装置の露光領域変形防止機構

発明者： 鷲山 裕之
出願人/特許権者： ペンタックス株式会社
代理人 (1件)： 松浦 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-243398
公開番号（公開出願番号）：特開2003-057833
出願日： 2001年08月10日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】【課題】 マトリクス状に配置された多数の変調素子を持つ露光ユニットを用いて回路パターンを描画する際に、各変調素子に対応する露光領域の変形を防止して回路パターンを高精度に描画する。【解決手段】 マトリクス状に配列された多数のマイクロミラーM(m,n)を持つ露光ユニット2001を用いて、多重露光により描画面上に所定パターンを描画する。描画面と光源との間にマイクロミラーM(m,n)の露光作動に同期して回転するシャッタ部材23を設ける。マイクロミラーM(m,n)の静止時にはシャッタ部材23の光透過領域23Aが光路を横切って光源からの照明光を描画面へ導く。マイクロミラーM(m,n)の相対移動時にはシャッタ部材23の遮光領域23Bが光路を横切って光源からの照明光を遮断する。

請求項（抜粋）：

マトリクス状に配置された多数の変調素子を有する露光ユニットを用いて所定のパターンを描画面上に多重露光により描画する多重露光描画装置であって、前記変調素子に対して常時照明光を供給する光源と、個々の前記変調素子を、前記照明光を前記描画面へ導く第1状態と前記照明光の前記描画面への到達を阻止する第2状態とのいずれか一方に設定する変調素子制御手段と、前記光源と前記描画面との間の光路上に設けられたシャッタ部材を有し、このシャッタ部材が、全ての前記変調素子が前記第1状態または前記第2状態で安定している安定期間においては変調された前記照明光を前記描画面に導くと共に前記変調素子が前記第1状態と前記第2状態との間を遷移する遷移期間においては前記照明光を遮断することにより、前記変調素子のそれぞれに対応した前記描画面における個々の露光領域の変形を防止する露光領域変形防止機構とを備えることを特徴とする多重露光描画装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00

FI (4件)：

G03F 7/20 501 ,  H05K 3/00 H ,  H01L 21/30 514 A ,  H01L 21/30 519

Fターム (11件)：

2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097BB01 ,  2H097BB10 ,  2H097CA03 ,  2H097CA08 ,  2H097CA11 ,  2H097CA12 ,  2H097EA01 ,  5F046AA11 ,  5F046BA06