特許
J-GLOBAL ID：200903004492434621

基板の処理装置

発明者：
山本 雄一

山本 雄一 について

, 
寺本 聡寛

寺本 聡寛 について

, 
月野木 渉

月野木 渉 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-137444
公開番号（公開出願番号）：特開2009-094460
出願日： 2008年05月27日
公開日（公表日）： 2009年04月30日
要約：
【課題】小ロット処理に対応した塗布現像処理装置を提供する。【解決手段】塗布現像処理装置のカセット搬入出部10のカセット載置台12の上方に、2段の空カセット載置台20、21と、カセット移送機構22が設けられる。空カセット載置台20、21は、外部カセット搬送装置Aが上下に通過できるように構成されている。各空カセット載置台20、21は、カセットが載置される4台のカセット移動装置30を有し、載置したカセットを隣のカセット移動装置に移送できる。外部カセット搬送装置Aによりカセット載置台12に搬入され、ウェハWが処理ステーションに搬送された空のカセットは、カセット移送機構22により空カセット載置台に一時的に貯め置かれる。空いたカセット載置台12には次のカセットが搬入される。空カセット載置台の空のカセットは、ウェハ処理が終了する前にカセット載置台12に戻される。【選択図】図4
請求項１：
基板の処理装置であって、 基板を収容するカセットを処理装置の外部との間で搬入出する際に載置するカセット載置部と、 基板を処理する基板処理部と、 前記カセット載置部のカセット内の基板を前記基板処理部に搬送し、なおかつ前記基板処理部で処理の終了した基板を前記カセット載置部のカセットに搬送する基板搬送部と、 基板が基板処理部に搬送されて空になったカセットを一時的に載置する空カセット載置部と、 前記空カセット載置部と前記カセット載置部との間で空のカセットを移送する空カセット移送機構と、を有することを特徴とする、基板の処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/677 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
H01L21/68 A ,  H01L21/30 562 ,  H01L21/30 502J
Fターム (23件)：
5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA03 ,  5F031FA09 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA14 ,  5F031GA57 ,  5F031HA57 ,  5F031KA06 ,  5F031KA07 ,  5F031KA08 ,  5F031LA07 ,  5F031LA13 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA13 ,  5F031MA26 ,  5F046JA22 ,  5F046LA18
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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