特許
J-GLOBAL ID：200903004494252148
光照射処理装置およびその方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
磯野 道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-048935
公開番号（公開出願番号）：特開平10-246965
出願日： 1997年03月04日
公開日（公表日）： 1998年09月14日
要約：
【要約】【課題】光照射時にワークを実質的に加熱するため、ワーク自体の温度が室温と大きくかけ離れていると、ワークの表面に結露する可能性が高い。さらに、ワークの表面に湿気が付着した状態で積層作業が行われると、本来なら大きな絶縁抵抗の値を必要とする部位の絶縁抵抗がいちじるしく低下することになる。また、ワークの搬送速度や、光源ランプの減灯調整あるいは光源ランプとワークの照射距離を変えてもワークの感光性部材に対応することができなかった。【解決手段】ワークを搬送経路に沿って搬送する搬送機構2と、前記搬送機構により搬送される前記ワークに光照射を行う光照射機構3と、前記光照射機構からの照射光の内、前記ワークの感光性部材の改質を必要以上促進させる所定波長の光を制御する配光機構4とからなり、前記配光機構は、前記ワークの処理内容に対応してあらかじめ所望の照射光を選択的に設定できる光照射処理装置1として構成した。
請求項（抜粋）：
ワークを搬送経路に沿って搬送する搬送機構と、前記搬送機構により搬送される前記ワークに光照射を行う光照射機構と、前記光照射機構からの照射光の内、前記ワークの感光性部材の改質を必要以上促進させる所定波長の光を制御する配光機構とからなり、前記配光機構は、前記ワークの処理内容に対応してあらかじめ所望の照射光を選択的に設定できることを特徴とする光照射処理装置。
IPC (3件)：
G03F 7/20 521
, G03B 27/72
, H05K 3/00
G03F 7/20 521
, G03B 27/72 Z
, H05K 3/00 H
