特許

J-GLOBAL ID：200903004501621472

蒸着マスク

発明者： 水野 満芳
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-098431
公開番号（公開出願番号）：特開平7-310168
出願日： 1994年05月12日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：

【要約】【目的】複雑な形状の薄膜パターンを精度よく行うことができ、分離、修正、再結合により再使用が可能な蒸着マスクを提供する。【構成】蒸着マスクは、曲率を有する基板と密に重ね合わせることができ、所望の薄膜パターンと同一形状の開口部(1a)を有するマスク本体(1)、前記基板を嵌め込むことのできる開口部(2a)を有し、前記マスク本体(1)とは別体の基板位置決め部材(2)、及び前記マスク本体(1)と前記基板位置決め部材(2)とを結合する結合手段(3)からなる。

請求項（抜粋）：

曲率を有する基板と密に重ね合わせることができ、所望の薄膜パターンと同一形状の開口部(1a)を有するマスク本体(1)、前記基板を嵌め込むことのできる開口部(2a)を有し、前記マスク本体(1)とは別体の基板位置決め部材(2)、及び前記マスク本体(1)と前記基板位置決め部材(2)とを結合する結合手段(3)からなることを特徴とする蒸着マスク。